Полоцкий государственный университет

Полоцкий
государственный
университет

  • разработана физико-математическая модель плазменного источника электронов, впервые учитывающая возмущение эмитирующей плазмы газового разряда, происходящее вследствие отбора электронов из нее через эмиссионный канал
    (Антонович, Д.А. Эмиссионные свойства плазменного эмиттера электронов / Д.А. Антонович, В.А. Груздев, В.Г. Залесский // Вестн. Полоц. гос. ун-та. Сер. С. Фундаментальные науки. – 2008. – № 9. – С. 114 – 123; Universal plasma electron source / V.A. Grusdev [et all] // Vacuum 77 (2005). – Р. 399–405); Груздев, В.А. О механизме возникновения электрического поля в плазме при эмиссии электронов / В.А. Груздев, В.Г. Залесский // Вестн. Полоц. гос. ун-та. Сер. С, Фундам. науки. – 2014. – № 4. – С. 103–108.
  • установлены особенности физических процессов переключения электронного тока из плазмы в эмиссионный канал в эффективных газоразрядных структурах плазменных источников электронов и влияние на характеристики газоразрядных структур конфигураций электрического и магнитного полей, реализуемых в них
    (Груздев, В.А. Формирование эмиссионного тока в плазменных эмиттерах электронов / В.А. Груздев, В.Г. Залесский // Прикладная физика. – 2009. – № 5. – C. 87 – 92; Залесский, В.Г. Энергетическая эффективность плазменных эмиттеров электронов/ В.Г. Залесский // Прикладная физика. – 2011. – № 1. – C. 58 – 64); Груздев, В.А. О роли плазменных электронов в формировании газоразрядной плазмы (Role of plasma electrons in the generation of a gas discharge plasma) / В.А. Груздев, В.Г. Залесский, И. С.Русецкий // Прикладная физика. – 2012. – № 1. – C. 64–72; Plasma Physics Reports. – 2012. – Vol. 38 (13). – Р. 1056–1064.
  • предложен способ повышения стабильности тока эмиссии его автоматическим регулированием за счет автосмещения потенциала эмиттерного электрода, при котором произвольное (не контролируемое) изменение тока эмиссии сопровождается изменениями потенциала эмиттерного электрода и параметров пристеночного слоя в эмиссионном канале, обеспечивающими отрицательную обратную связь по току эмиссии (электронного пучка)
    (Zalesski, V.G. Ways of the plasma electron sources operation / V.G. Zalesski, I.S. Rusetski // Proc. VI Intern. Conf. on Plasma Physics and Plasma Technology, Minsk (Belarus), 2009. – Vol. I. – P. 173–176, Zalesski, V. G / Peculiarities of plasma electron sources operation at high pressures // V. G Zalesski, D.A. Antionovich //J. Phys. D: Appl. Phys. 40 (2007) 7771-7777; Universal plasma electron source / V.A. Grusdev [et all] // Vacuum 77 (2005). – Р. 399–40.); Способы повышения эффективности извлечения электронов в источниках с плазменным эмиттером / Д.А. Антонович, В.А. Груздев, В.Г. Залесский, И.С. Русецкий // Вестн. Полоц. гос. ун-та. Сер. С, Фундам. науки. – 2010. – № 3. – С. 103–108.
  • разработана система электропитания плазменного эмиттера (получен патент на полезную модель)
    (Блок питания разряда плазменного источника электронов / Д.А. Антонович, В.А. Груздев, В.Г. Залесский, И.С. Русецкий // Приборы и техника эксперимента – 2006. – № 5. – С. 130 – 132; Блок питания разряда: пат. на пол. модель 2539 Респ. Беларусь, МПК 7 H 01J 37/077, 3/00 / Д.А. Антонович, В.А. Груздев, В.Г. Залесский, И.С Русецкий; заявитель Полоц. гос. ун-т. – № u20050410; заявл. 05.06.2005; опубл. 10.09.2005 // Афіцыйны бюл. / Нац. цэнтр iнтэлектуал. уласнасцi. – 2005. – № 3 (52). – С. 541);
  • разработана и реализована система управления электронным пучком для обеспечения импульсного режима обработки материалов
    (Антонович, Д.А. Формирование прерывистых электронных пучков в пушках с плазменным эмиттером / Д.А. Антонович, В.Г. Залесский, И.С. Русецкий // Материалы, технологии и оборудование в производстве, в ремонте и модернизации машин: сб. науч. тр. VI междунар. науч.-техн. конф. – Новополоцк: ПГУ, 2007. – Т. 3. – С. 92 – 95; Груздев, В.А. Моделирование температурного поля в приповерхностном слое при имепульсном электронно-лучевом воздействии/ В.А.Груздев, В.Г. Залесский, Д.Г. Руголь// ИФЖ – 2007. – Т.80.– № 2. – С. 20 – 24);
  • сконструирован ряд конструкций плазменных эмиттеров электронов, защищенных патентами на изобретение и полезные модели и предназначенных для сварки и термической модификации (закалки и оплавления микронеровностей) поверхностей, в том числе и внутренних цилиндрических металлических поверхностей
    (Antonovich, D.A. The gas-discharge structure for the formation of radial electron beams / D.A. Antonovich, V.A Gruzdev, V.G. Zalesski // Electrotechnica and electronica. 2009 – 5-6. – Р. 186 – 188; Плазменный ис-точник электронов : пат. 15662 Респ. Беларусь, H 01 J 3/00/ В.А. Груздев, В.Г. Залесский, И.С. Русецкий; заявитель Полоц. гос. ун-т. – № а 20100180 от 08.02.2010; опубл. 26.12.2011// Афіцыйны бюл. / Нац. цэнтр інтэлектуал. уласнасці. – 2011. – № 5 (82), С 39.