Полоцкий государственный университет

Полоцкий
государственный
университет

Назначение

Электронные источники с плазменным эмиттером, формирующие остросфокусированные или широкие пучки для электронных технологий: сварки, плавки, пайки, модификации электрофизических свойств поверхностей. Источники могут быть использованы вместо традиционных термокатодных источников в технологических установках в машино- и приборостроении, в технологии микроэлектроники, в установках для плазмохимических процессов.

Плазменные источники электронов и электронно-лучевые установки технологического назначения Электронно-лучевая пушка с плазменным эмиттером Электронно-лучевая установка

Преимущества

Основные преимущества по сравнению с традиционными термокатодными источниками:

  • повышенный в 5 - 10 раз ресурс;
  • повышенная производительность;
  • простота конструкции и отсутствие в ней дорогостоящих и редких металлов.

Основные технические характеристики

  • Ускоряющее напряжение, 10...30 кВ;
  • Ток пучка; до 0,5 А;
  • Диаметр пучка: - сфокусированного, 0.5...1 мм - широкого, до 180 мм;
  • Рабочее давление, 10-3...10-5 мм рт.ст.;
  • Глубина проплавления при сварке (в зависимости от мощности луча) - 0,8-10 мм;
  • Глубина закалки (в зависимости от площади поверхности) - до 1 мм.

Описание источников

Источники содержат генератор низкотемпературной плазмы на основе низковольтного разряда с холодным полым катодом, а при формировании широких пучков - с полым анодом; систему электродов ускорения пучков и систему фокусирования. В качестве системы электропитания может быть использована система электропитания технологических электронно-лучевых установок с термокатодными пушками при замене в них блока накала катода на блок питания разряда, что не вызывает значительных трудностей.

Степень освоения

Успешно эксплуатируются в приборо- и машиностроении. В Республике Беларусь – для сварки шестерен, в Российской Федерации - в установках электронно-лучевой сварки, нанесения покрытий, закалки из жидкого и твердого состояний, спекания композитных материалов.

Патентная защита

Конструкция плазменных источников электронов защищена патентами Республики Беларусь.

Предлагается

  • разработка и передача комплекта технической документации на источники и блок питания разряда;
  • поставка, монтаж и наладка источников на установке заказчика;
  • производственная кооперация по изготовлению установок на базе предлагаемых плазменных источников электронов.

 

При Вашей заинтересованности просим обращаться в УО «Полоцкий государственный университет» по адресу:

Груздев Владимир Алексеевич,
ул. Блохина, 29, г.Новополоцк, 211440, Витебской обл., Республика Беларусь.
Тел.: +375 214 53 24 20.
Факс: +375 214 53 06 79.
E-mail: Адрес электронной почты защищен от спам-ботов. Для просмотра адреса в вашем браузере должен быть включен Javascript..